Stel een vraag
Met het formulier hier onder kunt u contact op nemen met boekwinkel Boekstra.
- Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 - Volume 613
De vraag gaat over de volgende titel:
| Schrijver: | |
|---|---|
| Titel: | Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 - Volume 613 |
| ISBN: | 9781107413146 |
| Uitgever: | Cambridge University Press |
| Bijzonderheid: | 2015 176pp Paperback / softback |
| Prijs: |
€ 38,90
Gratis
|
| Meer info | Flaptekst Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. |
| Boek bekijken | |
Verzendkosten 1,75 euro per zending binnen Nederland, vanaf 19,95 euro GEEN verzendkosten binnen Nederland.
Verzendkosten België 2,95 euro per zending.
Minimale bestelafname van 10,- euro, exclusief verzending.
Speciale verzoeken? Meestal geen punt, vermeld ze in het veld opmerking.
De actuele levertijd kunt u vinden op onze website.
De verkoper zal binnen 1 werkdag contact met u opnemen om de koop verder af te handelen.